近日，武汉光谷量子技术有限公司（简称量子技术公司）光电子微纳（III-V族）加工平台生产线建成，实现了工艺联调、产线贯通，标志着该项目由建设阶段正式转入研发生产阶段。

光量子微纳（III-V族）加工平台生产线是国内首条引进集成电路产线原理设计建造的光电子芯片生产线，可用于III-V族半导体材料集成芯片研发和小批量生产。该项目第一阶段建设工作历时18个月，厂房建设采用国际洁净厂房的先进理念，核心区域采用独立的内嵌玻璃纤维增强筋防微振平台，洁净墙板采用倒挂安装，洁净间的支撑辅助设备直接安装在洁净间上方，使得洁净间洁净条件的控制变得更直接、更有效。

 据了解，该项目涉及的仪器设备种类多、精密程度高、联调难度大，量子技术公司历经1个半月完成了70余台套设备的工艺联调，建成后的生产线厂务洁净度、水气电等指标完全满足APD产品研发生产要求，支持六个项目同时开展研发生产工作，工艺水平达到APD阵列芯片和大光敏面APD芯片的研制标准，实现了APD系列芯片共性工艺技术的重大突破。

目前，量子技术公司已顺利完成10G APD芯片的十二步微纳加工工序，以及相关工序的测试评价和器件性能测试评价，测试结果均满足设计指标，产品的一致性和均匀性理想，可以满足系列APD芯片产业化需求。